ICP 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다.

2020.08.21 15:03

이경민 조회 수:2478

저는 광학박막 분야에서 sputter 장비를 이용하여 간섭필터를 코팅하고 있습니다.

sputter에 ICP를 같이 사용하여 기판에 증착된 Si와 반응가스를 결합시키는 용도로 사용하고 있습니다.

ICP코일 앞에 위치한 Quartz 표면에서 식각된 것 같은 모양새를 보여 원인분석에 있습니다.


질문1. ICP 쪽에 Self bias로 인해 Quartz가 식각되는 현상이 발생될 수 있는지 궁금합니다

질문2. Ar과 함께 들어가는 반응가스로 O2를 사용했을 때와 H2를 사용했을 때 ICP 쪽과 기판 쪽에서 어떤 현상들이 생기는지 궁금합니다

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76733
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20204
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68701
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
689 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] 718
688 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 737
687 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1132
686 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2360
685 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1063
684 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] 762
683 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 980
682 RF Sputtering Target Issue [2] file 598
681 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 605
680 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1849
679 plasma striation 관련 문의 [1] file 471
678 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 546
677 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 625
676 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 547
675 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1156
674 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1177
673 Plasma Arching [1] 1051
672 Polymer Temp Etch [1] 663
671 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 998
670 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 471
쓰기
태그

Boards

XE Login