안녕하세요,

반도체 업체에서 PVD, Descum을 담당하고 있는 엔지니어 입니다.

원래 담당이 Plasma 계열이 아니라 많은 것들이 부족하여 찾아찾아 이곳까지 발을 들이게 되었습니다. 궁금한 사항은 하기와 같습니다.

-. 현재 ICP type plasma 장비를 사용하고 있습니다.

-. ICP 설비 사용함에 있어 RF를 사용하여 coil에 bias를 인가함으로  plasma를 발생시키는 것과, platen(chuck)에 bias를 인가 하여 (-)극으로 만드는 것까지는 이해하고 있습니다.


==>  여기서, RF bias인가를 통해 platen이 (-)극으로 변경되었을 때, DC bias라는 명칭이 사용되는데(장비상 display, Vdc 또는 DC bias), 이 부분이 self bias를 통해 생성되는 bias라고 생각하면 되는 것인가요?

==> 그리고 Vdc 또는 DC bias로 display되는 전압이 혹시 DC 전원을 사용한 plasma와 동일한 영향력을 가지고 있는지 궁금합니다.

==> 영향력이 의미하는 부분은 DC 전원 사용하여 만든 음극은 electrode에 민감한 MEMS 자재를 작업하기엔 어렵기 때문에, 혹시 RF bias로 만든 DC bias가 DC전원을 사용했을 때와 동일한 effect를 가지는지가 궁금합니다.


답변주시면 감사드리겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77260
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20473
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57383
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68910
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92959
178 교수님 질문이 있습니다. [1] 779
177 wafer bias [1] 1162
176 Group Delay 문의드립니다. [1] 1161
175 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2332
» ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 4055
173 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 435
172 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1175
171 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] 967
170 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2445
169 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 606
168 플라즈마 충격파 질문 [1] 816
167 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 971
166 플라즈마 코팅 [1] 1047
165 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 850
164 RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] 865
163 RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] 987
162 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 576
161 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [1] file 397
160 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2350
159 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3553

Boards


XE Login