공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[271]
| 76778 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20224 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57178 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68721 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 92393 |
22 |
Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 22241 |
21 |
Arcing
[1] | 28648 |
20 |
RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
[1] | 24774 |
19 |
CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마...
[1] | 20385 |
18 |
scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다.
[2] | 19215 |
17 |
공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제...
[2] | 26474 |
16 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22579 |
15 |
Ground에 대하여
| 39436 |
14 |
Peak RF Voltage의 의미
| 22610 |
13 |
electrode gap
| 17951 |
12 |
Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다.
| 17338 |
11 |
반응기의 면적에 대한 질문
| 12809 |
10 |
플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다.
| 13205 |
9 |
CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여
| 19345 |
8 |
esc란?
| 28073 |
7 |
Virtual Matchng
| 16853 |
6 |
Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network)
| 35922 |
5 |
최적의 펌프는?
| 18542 |
4 |
플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항
| 27620 |
3 |
Faraday shielding & Screening effect
| 18357 |