Others Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다.

2020.06.08 18:29

튠업 조회 수:1087

안녕하십니까 교수님


공정 실습 중 Dechucking 이슈에 대해 궁금증이 있어 이렇게 글을 남깁니다.

제가 확인한 이슈는 dechucking 이후 핀업 진행 시 웨이퍼가 슬라이딩 하는 문제였는데, 해당 이슈에 대해 config값을 (0->5)변경하여 He flow가 되도록 조치했다는 것을 알았습니다.

chucking 과정중 He의 역할이 온도를 낮추는 역할 정도로 알고 있는데, He 가스가 chucking에서 어떤 역할들을 하는지 궁금합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76732
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20204
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68701
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
689 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] 718
688 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 737
687 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1132
686 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2360
685 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1063
684 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] 762
683 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 980
682 RF Sputtering Target Issue [2] file 597
681 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 605
680 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1849
679 plasma striation 관련 문의 [1] file 471
678 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 546
677 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 625
676 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 547
675 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1156
674 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1177
673 Plasma Arching [1] 1051
672 Polymer Temp Etch [1] 663
671 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 998
670 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 471
쓰기
태그

Boards

XE Login