안녕하세요. 교수님.

일전에 ICP에서 발생되는 self bias로 쿼츠가 식각될 수 있는지에 대해 문의드렸습니다.

그 때의 답변 감사드립니다.

 

이번에 여쭙고 싶은것은 그때와 이어지는 내용인데요.

저희의 실험(다층박막) 중 SiO2가 아닌 다른 물질을 증착 중 식각된 쿼츠에서 SiO2가 기판으로 날아와 일부 증착되는 것으로 예상이 됩니다.

그래서 여러가지 특성에 일부 영향을 주는데

쿼츠 쪽에서 발생되는 시각을 줄이기 위해 self bias를 줄일 방안을 생각해보았습니다.

그 중에 ICP영역(코일 전면부)에 영향을 주지 않는 선에서 anode를 장착하여 self bias를 만드는 전자들을 빼내어주는 방안을 생각해보았는데

이 경우 플라즈마 형성에는 문제가 없는지와 이 방법으로 정말 self bias를 줄여 식각현상을 줄이거나 없앨 수 있는지가 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76791
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20229
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57178
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68723
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92477
691 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 544
690 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 546
689 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 546
688 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 550
687 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 551
686 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 551
685 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 557
684 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 560
683 핵융합 질문 [1] 567
682 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 570
681 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 571
680 활성이온 측정 방법 [1] 573
679 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 576
678 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 580
677 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 585
676 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 586
675 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 587
674 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 590
673 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 594
672 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 594

Boards


XE Login