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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68663
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21 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 22236
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19 Peak RF Voltage의 의미 22592
18 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22936
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16 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24544
15 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24742
14 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24770
13 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24842
12 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25580
11 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26167
10 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26460
9 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27206
8 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27601
7 esc란? 28063
6 Arcing [1] 28637
5 matching box에 관한 질문 [1] 29658
4 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 35873
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2 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41206

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