Others 플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마

2004.06.19 16:44

관리자 조회 수:14699 추천:262

플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마에 의해 발생하는 잡음 발생이 심각하다고 하셨습니다. 이를 제거하기 위해 전원부를 따로 쓰고 있고 차폐막도 설치했음에도 심호잡음이 계속 측정되고 있다고 하셨습니다.
일단 아크 플라즈마에서는 순간적인 아크 전류의 크기가 커서 발생 잡음은 매우 크고 이의 제거는 매우 어렵습니다. 일단 발생하는 잡음 신호의 주파수와 크기를 측정하실 필요가 있습니다. 이를 참고로 가장 염두에 두셔야 할 것은 차폐막과 전원부의 접지상태를 확인하시기 바랍니다. 잡음은 직류가 아진 고주파 교류신호임을 유의하여 접지 상태를 점검하고 차폐막의 형태나 설치 위치도 중요하니 설치 위치등을 다시 고려하시기 바랍니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [219] 75415
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19148
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56477
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67542
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89320
72 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 4605
71 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5090
70 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5229
69 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 5248
68 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 5833
67 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 5875
66 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6175
65 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6382
64 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6544
63 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7652
62 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] 7862
61 고온 플라즈마 관련 8064
60 Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] 8357
59 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 9208
58 에칭후 particle에서 발생하는 현상 9359
57 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] 10156
56 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 10514
55 ICP와 CCP의 차이 [3] 12025
» 플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마 14699
53 산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성 14989

Boards


XE Login