안녕하세요. 저는 올해 서울고등학교 2학년생이 되는 한 학생입니다.

 

 

다름이 아니고 학교에서 R&E, Research and Education이라 하여 대학교 수준의 연구를

 

 

팀 단위로 선정하여 연구 및 개발하는 대회에 참여하려합니다.

 

 

제가 여기서 저희 팀과 함께 플라즈마를 이용하여 어떠한 것을 해보고 싶어서 자료를 찾는중

 

 

이곳 플라즈마 연구소를 찾아 기쁜 마음에 회원가입을 하고 글을 써봅니다.

 

 

주제는 플라즈마를 이용한 폐기물 처리 쪽으로 하려 하는데

 

 

필요 물품이나 이쪽에 대해 자세히 모르는 뿐더러 무엇을 해야 될지 잘 모르겠어서

 

 

혹여 조언을 주실 수 있을까 싶어 글을 올립니다...

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76855
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20262
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57193
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68747
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92610
83 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3057
82 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3167
81 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3325
80 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3548
79 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3658
78 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3834
77 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3945
76 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3970
75 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4164
74 플라즈마 색 관찰 [1] 4286
73 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 4292
72 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5319
71 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5469
70 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5896
69 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6086
68 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6268
67 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6430
66 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6497
65 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6570
64 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6655

Boards


XE Login