Others Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
2021.02.08 13:22
플라즈마 응용 연구실의 질문방에 오신 것을 환영합니다! 이 Q&A 게시판에는 2004년부터 플라즈마에 대해 받은 질문과 그 대답이 정리되어 있습니다. 이 방대한 자료 속에서 자신에게 필요한 내용을 더 쉽고 빠르게 찾기 위한 방법을 알려드리겠습니다.
1. 키워드로 검색하기
내게 필요한 정보를 빠르게 찾기 위해서는 먼저 검색창을 이용해봅시다.
위 그림과 같이 질문방 화면 좌측 하단에는 돋보기 아이콘이 있습니다. 이 돋보기 아이콘을 클릭하면 다음과 같이 검색창이 나타납니다.
자신이 궁금한 내용의 핵심 키워드를 이 검색창에 입력하여 검색해보면 자신이 가진 질문과 유사한 질문 및 그에 대한 답변을 찾을 수 있을 것입니다.
2. 내용으로 찾아보기
질문방에 들어오면 위 그림과 같이 여러 개의 탭에 따라 질문과 답변이 분류되어 있는 것을 볼 수 있습니다. 여기서 맨 위의 큰 탭 5개가 Plasma in general 부터 Process까지의 대분류 5가지를 나타내고 있습니다. 한 대분류를 클릭했을 때 대분류 아래에 나타나는 작은 탭들은 그 대분류에 속하는 소분류를 나타내고 있습니다. 만약 키워드 검색만으로는 자신에게 필요한 내용을 찾지 못하였다면, 자신의 질문과 관련된 내용이 있는 탭의 게시물들을 읽어보며 자신에게 필요한 내용을 찾아볼 수 있을 것입니다.
아래의 표에는 각 대분류 별 소분류 및 세부 분류가 정리되어 있습니다. 이 글의 첨부 파일 QA_분류_정의및설명.pdf에는 각 분류에 대한 상세한 설명과 참고할 만한 자료가 정리되어 있으니, 부디 첨부파일을 내려받아 읽어보시기 바랍니다.
연구 또는 궁금증 해결에 도움이 되는 내용을 찾을 수 있기를 바랍니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [219] | 75415 |
» | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19148 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56477 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67542 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 89320 |
72 | SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] | 4605 |
71 |
SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유
[1] ![]() | 5090 |
70 | DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] | 5229 |
69 | 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] | 5248 |
68 | RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] | 5833 |
67 | 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 | 5875 |
66 | O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] | 6175 |
65 | 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] | 6381 |
64 | 안녕하세요, 질문드립니다. [2] | 6544 |
63 | 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] | 7652 |
62 | 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] | 7862 |
61 | 고온 플라즈마 관련 | 8064 |
60 | Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] | 8357 |
59 | 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 | 9208 |
58 | 에칭후 particle에서 발생하는 현상 | 9359 |
57 | 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] | 10156 |
56 | N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] | 10514 |
55 | ICP와 CCP의 차이 [3] | 12025 |
54 | 플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마 | 14699 |
53 | 산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성 | 14989 |