Process OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다.
2022.12.07 14:13
안녕하세요.
Etching과 Deposition을 같이 최근에 공부를 시작하고 있는 회사원입니다.
다름이 아니라,
최근 기사에서 LCD->OLED로 넘어가는 과정에서 OLED 특성상(유기발광체 때문??) SF6를 NF3로 대체가 어렵다는
내용의 기사를 봤습니다.
질문은
1. OLED에서 SF6는 어느공정(Etching / Chamber Cleaning / ??)에 주로 사용되나요?
2. SF6를 NF3로 대체할 수 있는 이유는 뭔가요?
3. CF4도 사용되는 것으로 아는데, 어느공정에 주로 사용되나요?
고수님들의 답변 부탁드립니다.
가지고 계신 문헌과 특허라도 알려주시면 크게 감사드립니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [179] | 74885 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 18736 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56224 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 66686 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 88012 |
62 | 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] | 7725 |
61 | 고온 플라즈마 관련 | 8056 |
60 | Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] | 8207 |
59 | 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 | 9195 |
58 | 에칭후 particle에서 발생하는 현상 | 9271 |
57 | N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] | 9946 |
56 | 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] | 10072 |
55 | ICP와 CCP의 차이 [3] | 11671 |
54 | 플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마 | 14690 |
53 | 산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성 | 14963 |
52 | 박막 형성 | 15218 |
51 | PMMA(폴리메틸메타크릴레이트)의 표면개질에 관해 [1] | 15554 |
50 | Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] | 15686 |
49 | Sputter | 15724 |
48 | 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] | 16243 |
47 | 몇가지 질문있습니다 | 16550 |
46 | nodule의 형성원인 | 16630 |
45 | ICP 식각에 대하여... | 16767 |
44 | sputter | 16786 |
43 | 플라즈마 처리 | 16863 |
먼저 성균대학교 염근영교수님의 역저, "플라즈마 식각기술"을 추천드립니다.