제가 self bias에 대해 이해한 바는,

"RF를 가해주면,전자와 양이온의 이동도 차이로 인해 양 전극에 모두 self bias가 나타난다. 두 전극의 면적이 동일하면 같은 크기의 self bias가 생겨 전위가 같아져 어느 한쪽이 음극의 역할을 하지 못하므로 면적조절,capacitor연결,접지 등의 방법으로 한 쪽의 self bias크기를 키워 한쪽 전극을 음극의 역할을 할 수 있게 만들어준다."

입니다.

혹시 이해한 내용이 맞는지 확인 한번만 해주시면 감사하겠습니다!

 

제가 헷갈리는 부분은

교수님께서는 "이때의 표면 전위는 충전에 의한 전위 (전압)으로 인가된 전원 전압(RF)의 DC shift 값을 의미하게 되며, 플라즈마와 만나는 전극의 DC shift 전압을 스스로 결정이 되는 값으로서 selfbias 값이라고도 합니다. 따라서 모든 전극면에는 DC shift 전압이 만들어집니다."라고 설명해주셨으나, 교육에서는 두 전극의 크기가 같고 조건이 동일하다면, self bias가 형성되지 않는다. 라고 하였습니다.  제가 교수님 말씀을 이해한 바로는 두 전극의 면적이 동일하더라도 양 전극에 크기가 같은 self bias가 생기는 것이라고 이해했기 때문입니다.

하여 두 내용이 조금 모순되는 부분인 것 같아 제가 개념을 잘못이해하고 있는 것인지 궁금해서 질문드립니다! 읽어주셔서 감사합니다.

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