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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다.
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IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다.
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ICP 후 변색 질문
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연면거리에 대해 궁금합니다.
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RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소
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코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다
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플라즈마용사코팅에서의 carrier gas
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안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다.
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MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다.
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Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법
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코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상
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Collisional mean free path 문의...
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RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다.
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O2 Asher o-ring 문의드립니다.
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텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다.
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공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..?
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매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다.
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DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다.
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RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다.
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엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다.
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