Plasma Source ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다.
2020.12.27 15:04
안녕하세요 고려대학교 가속기과학과 김지수 학생입니다.
ECR ion source를 연구중인데 ECR chamber에 GAS를 주입하고 RF를 인가중 플라즈마가 켜지게 되면
RF Reflect가 엄청 많아집니다. RF 주파수를 위아래로 조절해 보아도 Rflect가 기본 base line처럼 깔려서 낮아지질 않네요
Plasma상태에 따라서 RF reflect가 많이 달라질까요? 달라진다면 어떤 plasma 상태를 만들어야 될까요?
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76691 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57159 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68680 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92218 |
687 | Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. | 543 |
686 | Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] | 544 |
685 | Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] | 546 |
684 | Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] | 549 |
683 | 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] | 550 |
682 | Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] | 558 |
681 | 핵융합 질문 [1] | 567 |
680 | 활성이온 측정 방법 [1] | 572 |
679 | CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] | 573 |
678 | Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] | 574 |
677 | 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] | 575 |
676 | Interlock 화면.mag overtemp의 의미 | 584 |
675 | OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] | 584 |
674 | 간단한 질문 몇개드립니다. [1] | 587 |
673 | 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] | 589 |
672 | 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] | 590 |
671 | Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] | 592 |
670 | RF Sputtering Target Issue [2] | 592 |
669 | N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] | 593 |
668 | 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] | 596 |