플라즈마는 기본적으로 양극과 음극 사이에, 아르곤 등의 비활성 기체를 넣어줘서, 이 비활성 기체가 전기장에 의해 방전되어서

이온화 되는 것으로 알고 있습니다.

 

그런데 크룩스의 음극선 실험에서, 실험 조건을 보니까, 진공관에다가 양 끝 단에 전위차를 걸어주고 있습니다.

이 음극선 실험에서 관출되는 음극선 (cathode ray)를 , 플라즈마의 일종으로 봐야 할까요? 아니면

플라즈마가 아니고, 그냥 전자의 다발로 이해해야 하나요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102832
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24683
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61408
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73473
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105820
733 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 702
732 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [플라즈마 이온주입 연구실] [1] 715
731 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [광운대 최은하 교수님] [1] 721
730 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 721
729 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 722
728 메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마] [1] 723
727 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [대면 재료의 전기적 특성와 플라즈마 쉬스의 변화] [3] 727
726 KM 모델의 해석에 관한 질문 [Self bias와 ambipolar diffusion] [1] 731
725 Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant] [1] 732
724 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [Powder] [1] 741
723 Bias인가 Cable 위치 관련 문의 [플라즈마 분포 관찰] [1] 745
722 챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP] [1] 747
721 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [VPS] [1] 750
720 Floride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [Sputter setup 및 구동 원리] [1] 750
719 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 754
718 ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다 [1] 757
717 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 761
716 안녕하세요 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [E x B drift] [1] file 768
715 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath] [2] 781
714 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [Cleaning 후 재활용] [1] 782

Boards


XE Login