Matcher RF 반사파와 이물과의 관계

2021.02.25 14:33

이재학 조회 수:599

안녕하십니까 교수님

디스플레이 업체에서 현재 CVD설비 공정분석을 담당하고 있는 이재학입니다.

 

Chamber별로 RF Reflect의 수준이 상이하며, 검사기에 검출되는 불량수와 양의 관계로 확인되고 있습니다.

 

 

1. RF Reflect 발생으로 인해 내부 이물이 과생성되는 건지

 

2. 내부 이물로 의해 RF Reflect가 점점 커지는지 의문입니다.

 

 

1의 경우 Load/Tune을 통해 내부 이물을 제어하는 평가를 진행하려하고

 

2의 경우 Parts 교체와 재질변경을 통해 RF Reflect를 낮추는 방향으로 진행하려합니다.

 

 

교수님의 견해로는 어느방향에 유의차가 있을지 문의드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [110] 4865
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16209
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51247
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63741
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83499
576 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 538
575 교수님 질문이 있습니다. [1] 540
574 전자 온도 구하기 [1] file 550
573 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 553
572 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 555
571 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 556
570 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 570
569 ICP 후 변색 질문 573
568 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 578
567 plasma 형성 관계 [1] 580
566 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 584
565 Collisional mean free path 문의... [1] 588
564 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 593
» RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 599
562 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 607
561 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 612
560 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 621
559 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 621
558 알고싶습니다 [1] 625
557 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 630

Boards


XE Login