안녕하십니까

 

장비 업계에서 공정 담당을 하고 있는 엔지니어입니다.

 

이번에 Facing target sputtering(DC+RF dual)을 처음 접하여 진행중 동일 공정 조건으로 여러번 진행시

 

Dep 두께가 감소하는 현상과 함께 DC P/S 의 Voltage가 증가하고 A 가 감소하는 현상이 발생하였습니다.

 

물론 같은 W입니다.(Watt 제어)

 

Gas는 Ar 50sccm O2 1sccm, 타겟은 ITO입니다.

 

20분정도의 짧은 시간의 Sputtering이며 단 2일간의 공정사이에 Voltage가 500V에서 600V 올라가는 현상도 같이 발생합니다.

 

RF와 동시 사용시 발생하는 문제인지 처음 보는 현상이라 어렵네요

 

문의사항에 필요한 항목이 있으면 댓글 주시면 감사하겠습니다.

 

비슷한 경험이라도 있으신분은 댓글 주세요 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102861
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24688
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61415
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73479
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105832
733 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 702
» 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [플라즈마 이온주입 연구실] [1] 715
731 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [광운대 최은하 교수님] [1] 721
730 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 721
729 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 723
728 메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마] [1] 723
727 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [대면 재료의 전기적 특성와 플라즈마 쉬스의 변화] [3] 727
726 KM 모델의 해석에 관한 질문 [Self bias와 ambipolar diffusion] [1] 732
725 Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant] [1] 733
724 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [Powder] [1] 742
723 Bias인가 Cable 위치 관련 문의 [플라즈마 분포 관찰] [1] 745
722 챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP] [1] 748
721 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [VPS] [1] 750
720 Floride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [Sputter setup 및 구동 원리] [1] 750
719 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 754
718 ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다 [1] 759
717 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 761
716 안녕하세요 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [E x B drift] [1] file 768
715 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [Cleaning 후 재활용] [1] 782
714 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath] [2] 782

Boards


XE Login