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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[1]
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494 |
F/S (Faraday Shield)
 | 20438 |
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493 |
CCP 에서 Area effect(면적) ?
| 20435 |
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492 |
Breakdown에 대해
| 20412 |
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491 |
ccp-icp
| 20292 |
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490 |
CCP/ICP , E/H mode
| 20279 |
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489 |
wafer 전하 소거: 경험 있습니다.
| 20269 |
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488 |
Lissajous figure에 대하여..
| 20249 |
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487 |
Langmuir probe tip 재료
| 20101 |
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486 |
RF plasma에 대해서 질문드립니다.
[2] | 20091 |
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485 |
확산펌프
| 20036 |
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484 |
상압 플라즈마 방전에 관한 문의
[1] | 20008 |
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483 |
RIE장비 에서 WALL 과 TOP 온도
| 20008 |
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482 |
안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다.
[1] | 19977 |
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481 |
Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다.
| 19901 |
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480 |
DBD플라즈마와 플라즈마 impedance
| 19871 |
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479 |
형광등과 플라즈마
| 19864 |
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478 |
CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마...
[1] | 19739 |
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477 |
플라즈마 진단법에 대하여
[1] | 19648 |
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476 |
CCP의 Vp가 ICP의 Vp보다 높은 이유
| 19608 |
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475 |
DCMagnetron Sputter에서 (+)전원 인가시
| 19534 |
