Sheath 프리쉬스에 관한 질문입니다.
2019.03.07 20:36
랑뮤어 프로브에 관한 논문을 읽다가 궁금하게 생겨 질문 드립니다.
이온은 프리쉬스 영역에서 0.5(kTe/e)에 해당하는 전압강하를 통하여 bohm속도를 갖게되어 음극쪽으로 끌려가는 것으로 알고 있습니다.
논문에서는 음극에서 수집되는 전류밀도는 일정하므로 이온의 밀도는 감소하며 만약 이 이온의 밀도감소 속도가 전자의 밀도감소 속도보다 빠르게 될 경우 전자가 사라지기 전에 이온밀도가 감소하여 결국 순 전류가 음의 값을 가져 이온의 속도가 증가한다고 합니다. 따라서 이를 해결하려면 쉬스의 양의 공간 전하를 유지하기 위해 이온은 bohm속도에 해당하는 속도로 쉬스로 들어가야 한다고 나와있습니다.
이 부분이 이해가 되질 않습니다. 프리 쉬스에 의해 bohm속도에 도달한 이온들은 쉬스영역으로 더 잘 끌려간다는 말 아닌가요? 이렇게 되면 이온밀도는 더 감소하게되는것 아닌지... 쉬스의 양의 공간전하 유지를 위해 이온밀도 감소 속도를 낮춰야 한다면서 한편으로는 쉬스영역으로 더 잘 끌려갈 수 있게 bohm 속도를 가져야 한다니... 뭔가 역설적인것 같습니다..
또 프리 쉬스가 생기는 이유에 대해서도 궁금합니다.
또 다른 한 논문에서는 "이온-중성종 간의 약한 충돌이 지배적으로 일어나는 전통적 의미의 프리쉬스 영역이 존재함을 의미" 라고 적혀있는것을 보았습니다.
이온-중성종간의 충돌이 프리쉬스의 형성과 어떤 관련이 있나요?? 아니면 그냥 프리쉬스영역에서 이온-중성종간의 충돌이 일어난다는 뜻인가요??
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] | 76844 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20252 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57192 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68744 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92603 |
696 | ccp-icp | 21515 |
695 | 47th American Vacuum Society International Symposium 2000 | 21425 |
694 | CCP 에서 Area effect(면적) ? | 21399 |
693 | Breakdown에 대해 | 21377 |
692 | 플라즈마 실험 | 21348 |
691 | 플라즈마 측정기 [1] | 21334 |
690 | 저온 플라즈마에서 이온, 전자, 중성자 온도의 비평형이 생기는 이유에 대해서... [1] | 21333 |
689 | Xe 기체를 사용한 플라즈마 응용 | 21319 |
688 | ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] | 21198 |
687 | 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] | 21111 |
686 | 플라즈마란? | 21060 |
685 | 대기압플라즈마 진단 | 21025 |
684 | RF plasma에 대해서 질문드립니다. [2] | 20971 |
683 | UBM 스퍼터링 장비로... [1] | 20911 |
682 | plasma cleanning에 관하여.... | 20839 |
681 | IEDF EQP에 대한 답변 | 20807 |
680 | 이온주입량에 대한 문의 | 20738 |
679 | 교재구입 | 20725 |
678 | Three body collision process | 20650 |
677 | Lissajous figure에 대하여.. | 20622 |