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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[330]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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713 |
RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메커니즘에 대해 질문하고 싶습니다. [플라즈마-화학-표면 반응 모델]
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712 |
corona model에 대한 질문입니다. [준중성과 저압플라즈마]
[1] | 330 |
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711 |
플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [대기압 환경 플라즈마와 라디컬 분포]
[1] | 461 |
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710 |
plasma 공정 중 색변화 [플라즈마 진단과 분광학]
[1] | 1296 |
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709 |
ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법]
[1] | 826 |
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708 |
PEALD장비에 관해서 질문드리고 싶습니다. [장비 세정 및 관리 규칙]
[1] | 829 |
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707 |
ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체]
[1] | 1149 |
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706 |
E-field plasma simulation correlating with film growth profile [플라즈마 확산과 밀도 분포]
[1] | 558 |
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705 |
SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리]
[1] | 1774 |
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704 |
OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단]
[1] | 945 |
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703 |
self bias [쉬스와 표면 전위]
[1] | 812 |
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702 |
Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위]
[1] | 1254 |
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701 |
경전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다.
[1] | 1088 |
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700 |
챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction]
[1] | 850 |
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699 |
PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable]
[1] | 1878 |
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698 |
텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [Plasma Cleaning]
[1] | 604 |
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697 |
ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath]
[1] | 2019 |
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696 |
CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision]
[1] | 896 |
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695 |
실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [대기압 플라즈마, highly collisional plasma]
[1] | 407 |
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694 |
RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [Plasma sheath, Stochastic heating]
[1] | 1443 |
