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공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49509
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 59717
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 75594
523 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 1997
522 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 573
521 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 900
520 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 1401
519 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 698
518 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 15715
517 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 591
516 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 1856
515 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 312
514 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 1826
513 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 364
512 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 328
511 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 7628
510 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 461
509 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 1628
508 진학으로 고민이 있습니다. [2] 632
507 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 542
506 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 1201
505 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 362
504 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 785
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