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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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382 |
PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성....
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381 |
Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정
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380 |
ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할
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379 |
Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미
[1] | 582 |
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378 |
고진공 만드는방법.
[1] | 480 |
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377 |
PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요
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376 |
플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성
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375 |
플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다.
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374 |
Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다.
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373 |
코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다
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372 |
SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유
[1]  | 1364 |
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371 |
플라즈마 압력에 대하여
[1] | 737 |
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370 |
RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다.
[1] | 951 |
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369 |
활성이온 측정 방법
[1] | 248 |
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368 |
rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다.
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367 |
Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요?
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366 |
ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage
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365 |
sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지
[1] | 1478 |
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364 |
Remote Plasma 가 가능한 이온
[1] | 675 |
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363 |
CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요
[1] | 476 |
