ICP 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다.

2020.09.08 18:07

공대생입니당 조회 수:2315

교수님 안녕하세요, 플라즈마 관련 공부를 하고 있는 취업준비생입니다.

ICP 장비를 공부하다가 궁금한점이 생겨서 질문 올립니다.

1. ICP장비는 소스파워로 이온 밀도를 조절하고, 바이어스 파어로 이온 에너지를 조절한다고 하는데, 소스파워는 이해가 가는데

바이어스 파워로 이온 에너지를 조절한다는 메커니즘이 이해가 안갑니다. 블로킹 커패시터를 달아서 한다고 하는데, 이해가 안가네요..


2. capacitive coupling이라는 현상으로 인해 벽이 스퍼터 되는 문제점이 발생한다고 하는데, 이 벽이 스퍼터 된다는게

플라즈마가 균일하지 않게 된다는 말일까요?


3. 이 질문은 PE CVD 관련 질문인데요, PECVD를 진행할 때 전극 면적비를 같게 하는 이유가 라디칼을 이용한 증착 방법이기 때문에

   이온의 영향을 줄이기 위함이다. 이렇게 생각했는데, 제 생각의 논리가 맞을지 궁금합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76733
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20204
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68701
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
669 플라즈마 관련 교육 [1] 1408
668 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1227
667 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 445
666 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 812
665 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 885
664 RF 파워서플라이 매칭 문제 815
663 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 4940
662 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1239
661 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 687
660 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 604
659 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1445
658 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 484
657 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1059
656 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 594
655 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1008
654 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 594
653 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1056
652 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1517
651 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 881
650 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2051
쓰기
태그

Boards

XE Login