CCP 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다.

2020.09.10 14:20

Beatrice 조회 수:16665

안녕하세요. 반도체 장비회사에 근무하고 있는 직장인 입니다.


다름아니고 플라즈마에 대해 공부하다보니 교수님이 저자로 들어가 있는 논문을 보게 되었는데요.


제목에서와 같이 좁은 간격 CCP에서 플라즈마 분포에 관한 논문 이었습니다. 

(논문 제목 : 좁은 간격 CCP 전원의 전극과 측면 벽 사이 플라즈마 분포)


본문에서 Fig6 에 대한 해석을 보면 확산 영역에서 전달된 전력은 방전 영역에서의 전달 전력의 10%밖에 되지 않는데, 그럼에도 불구하고 확산영역의 플라즈마 밀도가 방전영역의 플라즈마 밀도보다 높게 나타났다고 되어 있습니다.


하지만 Fig2의 그래프를 보면 확산영역의 플라즈마 밀도는 증가했다가 감소하는 구간은 있어도 방전영역보다는 작았습니다. 물론 Fig2는 실제 실험 결과이고 Fig6은 전산모사를 통해 해석한 결과이기는 하나 그에 따른 차이라고 하기엔 너무 오차가 커 보여서 질문 드립니다.


그리고 플라즈마의 정 가운데가 전자 밀도 즉 플라즈마 밀도가 가장 높기 때문에 기체의 여기반응이나 이온화 반응 역시 중심부에서 가장 자주 일어날 것 같은데, 전극의 가장자리부분에서 더 많이 일어나는 원인이 무엇인지 잘 모르겠습니다.


항상 많은 도움 얻어갑니다. 감사합니다!

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