안녕하세요 ICP 식각 장비를 이용해 실험을 진행하고 있는 학부생입니다. 현재 제가 사용하는 ICP 장비에 RF upper power, RF lower power, RF bias [Vpk] (v) 라는 파라미터가 존재합니다. 제가 알고 있는 바로는 Upper power는 Coil에 걸리는 파워로 플라즈마 생성 용도라고 생각을 했고, lower power는 이온의 에너지, 충격을 이용하기 위한 용도라고 생각을 했습니다. 하지만 RF bias는 무슨 용도로 사용이 되는 것인지 궁금해서 질문을 드립니다.

또한 절연체 층을 식각할 때는 RF bias를 가하고, 메탈 층을 식각할 때는 RF bias를 가하지 않는데 어떤 이유인지 궁금합니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103266
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24706
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61513
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73516
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105934
714 ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다 [1] 787
713 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [열플라즈마와 "플라즈마 금속학"] [1] 793
712 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [핵융합 연구소] [1] 796
711 Frequency에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [전자와 이온의 열운동 특성과 반응 거리] [1] 797
710 활성이온 측정 방법 [한국 기계 연구소 송영훈 박사팀] [1] 800
709 플라즈마 기본 사양 문의 [형광등 동작 원리] [1] 804
708 핵융합 질문 [NFRI 국가핵융합 연구소] [1] 805
707 간단한 질문 몇개드립니다. [공정 drift와 database] [1] 811
706 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath] [2] 814
705 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의 드립니다. [플라즈마 분포와 확산] [1] 820
704 self bias [쉬스와 표면 전위] [1] 825
703 ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential] [1] 826
702 수중속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다. [방전 특성과 절연 파괴] [2] file 829
701 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [방전 기전] [1] 839
700 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 843
699 PEALD장비에 관해서 질문드리고 싶습니다. [장비 세정 및 관리 규칙] [1] 847
698 plasma striation 관련 문의 [Plasma striation] [1] file 850
697 전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source] [1] file 850
696 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계] [2] 850
695 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION 간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [플라즈마 충돌 반응] [1] 854

Boards


XE Login