Others 플라즈마 응용분야

2004.06.19 16:09

관리자 조회 수:17894 추천:201

플라즈마 물리와 관련된 분야는실로 다양합니다.

플라즈마 물리의 연구 분야는 크게 핵융합 연구에 관련된 분야와 산업용 플라즈마 응용 분야로 크게 구분할 수 있을것 같습니다. 물론 천체 플라즈마 연구도 있으나 현실 속으로 아직깊이 들어와 있지는 못합니다. 핵 융합은  대전의 기초과학지원 연구원(KBSI) 혹은 원자력연구원등에서 연구를 활발히 하고 있습니다. 이곳에서는 순수한 플라즈마 물리의 지식이 요구됩니다. 안정된 분위기에서 연구에 매진할 수 있는 훌륭한 연구소들이어서 이 분야를 전공한 후에 자신의 직장으로 삼을 만한 좋은 곳이라 생각됩니다.

다른 한 분야는 플라즈마를 산업에 이용하는 부분입니다. 플라즈마 상태를 요구하고 도구로 쓰는 많은 분야가 있습니다. 플라즈마를 이용한 토치, 박막, 식각등의 반도체 소자 제조 회사, 액정 모니터를 만드는 회사등의 개발, 물질 표면 처리를 위한 연구등의 분야에서는 플라즈마를 전공한 연구원을 요구합니다. 또한 이런 반도체 소자를 제조하기 위한 장치회사에서도 플라즈마 전공자가 필요합니다. 위의 예로는 삼성전자/삼성SDI/현대반도체/LG-Phillips 및 PDP/LCD 사업부등이 이런 범주에 속하게 됩니다. 아울러 반도체 제조를 위한 국산 장비의 개발분야는 최근 급속히 발전되고 있어 이들 분야에서도 전공자들을 계속 요구하고 있습니다. 최근까지 반도체 제조 장비는 대부분 일본/미국에서 수입되었으나 일부 장비에 대한 국산화가 매우 활발하게 진행되고있어 밝은 미래를 보여주고 있습니다. 참고로 플라즈마 응용분야는 많은 부분이 재료공학등의 분야와 협력하여 연구를 수행하기 때문에 물질 특성/재료에 관한 지식을 같이 쌓으면 향후 진로 선택에 많은 도움을 받을 수 있을 것 입니다.

마지막으로 최근 들어 플라즈마를 이용한 환경 처리방법이 많이 연구되고 있습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] 78037
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20848
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57737
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93633
72 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5576
71 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5587
70 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 6114
69 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6177
68 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6394
67 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6529
66 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6531
65 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6589
64 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 7053
63 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7736
62 고온 플라즈마 관련 8096
61 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] 8103
60 Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] 8685
59 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 9290
58 에칭후 particle에서 발생하는 현상 9594
57 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] 10378
56 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 11725
55 ICP와 CCP의 차이 [3] 12659
54 플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마 14751
53 산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성 15082

Boards


XE Login