Deposition 박막 형성

2004.06.21 15:10

관리자 조회 수:15114 추천:241

박막 형성

ICP장치에 관해서는 참고서적을 이용하시고 sputter(본란에서 설명을 하였습니다. 참고하기 바랍니다.)를 이용하여 상온 target에
박막을 형성시키는 것은 가능합니다. 입히고자 하는 박막이나 시편의 성질에 따라서 시편의 온도를 조절해야 함은 당연할 것 입니다.
적절한 온도에서 박막이 잘 성장하게 되며 이에 대해서도 이미 설명드린 바가 있습니다. 한가지 더 고려해야 할 것은 금속 박막
성장을 위한 방법으로 MOCVD방법이 있으니 이를 공부해 보는 것도 좋은 방법입니다. MOCVD는 sputter로 가능하지 않은 금속 물질등
의 박막 성장에 사용하는 방법입니다.

ICP에 관한 자료는 일단 다음 교재를 참고하기 바랍니다.
1. M.A. Lieberman & A.J.Lichtenberg "Principles of plasma discharges and material processing (1994,Jhon Wiley & Sons.Inc)
2. J.R.Roth, "Industrial Plasma Engineering : Vol.1 Principles" (1995, Institute of Physics Publishing)

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4931
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16300
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51252
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63768
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83577
27 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 605
26 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 584
25 ICP 후 변색 질문 575
24 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 560
23 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 558
22 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 528
21 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 495
20 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 484
19 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 458
18 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 448
17 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 445
16 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 436
15 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 432
14 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 430
13 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 421
12 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 420
11 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 416
10 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 415
9 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 360
8 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 353

Boards


XE Login