안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76633
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20138
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57144
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68663
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92107
62 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1177
61 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1172
60 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1154
59 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1152
58 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1137
57 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1115
56 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1103
55 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1093
54 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1086
53 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1068
52 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1052
51 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1037
50 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 982
49 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 972
48 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 883
47 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 866
46 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 864
45 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 839
44 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 751
43 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 731

Boards


XE Login