안녕하세요 저는 현재 플라즈마 에쳐장비 쪽에서 근무중인 사람입니다.

하지만, 대학과정동안 화학에 대해선 공부해 본적이 없는지라 가스에 대한 지식이 거의 전무하다고 봐도 되는 상태입니다..

그래서 특정 식각물질에 대해 어떠한 가스가 어떤 역할을 하는지,

그에 대한 화학반응식이 무엇인지  공부 하고 싶은데

혹시 관련 교재를 추천해주실 수 있으신가요.. 부탁드립니다.

 

만약 적당한 교재가 없다면, 어떤 방법으로 공부하면 좋을지 조언 좀 부탁드립니다. 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [326] 93365
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 23670
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60372
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72212
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 102448
74 SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리] [1] 1662
73 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1559
72 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [수소의 확산과 쉬스에 의한 가속] [4] 1554
71 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [O2 plasma, ion sputtering] [1] 1541
70 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [나노광전자 데이터 분석] [1] 1509
69 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [베르누이 정리] [1] 1488
68 etch defect 관련 질문드립니다 [Plasma distribution] [1] 1475
67 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [플라즈마 방전 및 이온 가속] [1] 1451
66 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [Chamber impedance와 공정 드리프트 진단 인자] [1] 1446
65 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어] [1] 1406
64 Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp] [2] 1395
63 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias] [1] 1379
62 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1349
61 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1320
» Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1307
59 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [CCP 균일도, CCP edge] [1] 1293
58 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1277
57 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [CCP 방전 원리] [1] file 1252
56 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 1188
55 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 1153

Boards


XE Login