Etch etch defect 관련 질문드립니다

2022.04.28 18:19

르후앤 조회 수:1054

1. etch 공정이 완료된 이후 가장자리에 다량의 defect가 발견되었는데 이때 원인을 분석하기 위한 방법이 무엇이 있을까요?

 

2. 또 1번의 defect를 줄이기 위한 방법이 무엇이 있을까요?

 

저 나름대로 공부를 해봤는데 다른분들 의견이 궁금해서 질문드립니다

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76711
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20164
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68688
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92254
62 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1182
61 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1176
60 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1163
59 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1153
58 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1141
57 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1120
56 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1110
55 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1101
54 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1086
53 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1070
52 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1056
» etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1054
50 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1006
49 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 978
48 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 888
47 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 877
46 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 868
45 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 842
44 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 753
43 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 745
쓰기
태그

Boards

XE Login