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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72238
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712 corona model에 대한 질문입니다. [준중성과 저압플라즈마] [1] 298
711 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [대기압 환경 플라즈마와 라디컬 분포] [1] 418
710 plasma 공정 중 색변화 [플라즈마 진단과 분광학] [1] 1166
709 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법] [1] 749
708 PEALD장비에 관해서 질문드리고 싶습니다. [장비 세정 및 관리 규칙] [1] 764
707 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 1053
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [플라즈마 확산과 밀도 분포] [1] 516
705 SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리] [1] 1668
704 OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단] [1] 875
703 self bias [쉬스와 표면 전위] [1] 752
702 Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위] [1] 1190
701 경전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 1018
700 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction] [1] 806
699 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable] [1] 1762
698 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [Plasma Cleaning] [1] 568
697 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 1931
696 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 845
695 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [대기압 플라즈마, highly collisional plasma] [1] 383
694 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [Plasma sheath, Stochastic heating] [1] 1353
693 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 871
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