이제 막 Plasma라는 것에 첫발을 딛은 직장 입니다. 

 

주파수는 13.56Mhz 사용 중입니다. 

 

공정 Power가 500W -> 1000W로 올렸더니 Load position이 내려 갔습니다. 

 

RF power가 상향되면 Load position이 내려가는 이유를 잘 모르겠습니다. (기계공학전공입니다.)

 

Load position이 내려가는 이유를 알려주실수 있을까요? 

 

감사합니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [272] 76805
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20240
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57185
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68736
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92560
672 Polymer Temp Etch [1] 669
671 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 1007
670 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 477
669 플라즈마 관련 교육 [1] 1410
668 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1245
667 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 449
666 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 813
665 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 887
664 RF 파워서플라이 매칭 문제 821
663 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 5005
662 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1247
661 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 690
660 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 607
659 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1453
658 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 485
657 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1083
656 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 594
655 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1010
654 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 597
653 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1061

Boards


XE Login