안녕하세요

측정장비 분야에서 일하고 있는 연구 엔지니어입니다.

 

ICP(13.56MHz) 이용해 플라즈마 띄우고 Standard L-type Matching Network 사용중입니다.

Matcher에 대해 어느정도 이론은 이해했다고 생각했는데 현실은 다르네요.

 

안테나와 Matcher 間 거리, 안테나의 길이, Clamp로 엮는 위치 등등 모든게 변수가 되는 것 같습니다...

이러한 이유로 Plasma를 띄운 후 Current 값이 계속해서 안정적이지 못하고 뛰는 것 같은데 혹시 이러한 값들도 영향을 미치나요?

 

혹시 최선의 값을 알고 계신다면 알려주시면 진심으로 감사하겠습니다.

바쁘신 연구 와중에도 항상 저희에게 도움을 주셔서 감사합니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76864
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20265
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57197
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68750
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92666
677 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 630
676 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 556
675 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1184
674 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1213
673 Plasma Arching [1] 1065
672 Polymer Temp Etch [1] 672
671 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 1016
670 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 487
669 플라즈마 관련 교육 [1] 1414
668 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1276
667 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 452
666 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 813
665 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 892
664 RF 파워서플라이 매칭 문제 827
663 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 5070
662 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1257
661 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 698
660 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 612
659 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1469
658 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 488

Boards


XE Login