안녕하세요? 

저는 플라즈마에 관심이 많은 학생입니다.

 

다름이 아니라, 플라즈마 공정 시 어떠한 박막에 대하여 photon이 박막의 결합을 파괴하면서 플라즈마 손상을 줄 수 있다는 내용을 들었는데요,

자외선 측정기들을 찾아보니 mW/cm^2 의 값으로, 측정이 되어 값을 알 수 있는데,

예를 들어 어느 한 결합의 결합 에너지가 10 eV 라면, 자외선 측정기의 값과 결합에너지를 직접적으로 광자에너지의 단위로 비교가 가능할까요?

검색해보니 mW 는 시간을 도입하여 mW x sec --> mJ로 계산이 되고 이를 eV로는 변환할 수 있는 것 까지는 확인하였으나 /cm^2 를 어떻게 해야할지 잘 모르겠습니다.

고견주시면 감사드리겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [335] 103771
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24749
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61621
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73572
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 106075
715 메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마] [1] 732
714 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [플라즈마 이온화 및 해리 반응, 반응기 벽면 세정] [1] 940
713 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메커니즘에 대해 질문하고 싶습니다. [플라즈마-화학-표면 반응 모델] [1] 636
712 corona model에 대한 질문입니다. [준중성과 저압플라즈마] [1] 352
711 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [대기압 환경 플라즈마와 라디컬 분포] [1] 468
710 plasma 공정 중 색변화 [플라즈마 진단과 분광학] [1] 1348
709 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법] [1] 860
708 PEALD장비에 관해서 질문드리고 싶습니다. [장비 세정 및 관리 규칙] [1] 856
707 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 1186
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [플라즈마 확산과 밀도 분포] [1] 568
705 SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리] [1] 1824
704 OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단] [1] 966
703 self bias [쉬스와 표면 전위] [1] 827
702 Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위] [1] 1272
701 경전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 1105
700 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction] [1] 866
699 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable] [1] 1930
698 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [Plasma Cleaning] [1] 619
697 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 2049
696 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 929

Boards


XE Login