Process 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다
2020.09.05 00:10
안녕하세요
저는 직장인입니다
회사에서 OLED쪽 CVD 장비유지보수 업무를 하고있습니다
그동안 플라즈마 연구실에서 궁금한거 눈팅만 하다가 이번에는 없어서 직접 질문드립니다
보안에 위배될까봐 자세히는 적지 못 합니다 이해 부탁드립니다.
증착 중 부속 장비의 알람 발생으로 증착 중 RF Power 및 가스 Flow가 중단되어 증착이 중단됩니다
Alarm 발생 Glass를 살리기 위해 Glass 제전(전극과 Glass 간격을 벌려줌) 후 추가증착을 진행(추가증착시 전극에 Glass 안착 후)하는데
이 추가증착 진행 Glass에서 흰얼룩(뿌연얼룩/방사형얼룩)이 발생됩니다
이것을 해결 하기 위한 방법이 있을까요?
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76736 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20206 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68702 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92280 |
668 | 플라즈마 진단법에 대하여 [1] | 20576 |
667 | 확산펌프 | 20516 |
666 | wafer 전하 소거: 경험 있습니다. | 20481 |
665 | RIE장비 에서 WALL 과 TOP 온도 | 20422 |
664 | Langmuir probe tip 재료 | 20408 |
663 | CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] | 20381 |
662 | 상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [1] | 20311 |
661 | 안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다. [1] | 20260 |
660 | 형광등과 플라즈마 | 20247 |
659 | 플라즈마 matching | 20237 |
658 | DBD플라즈마와 플라즈마 impedance | 20207 |
657 | Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다. | 20204 |
656 | 플라즈마 진동수와 전자온도 | 20043 |
655 | 석영이 사용되는 이유? [1] | 20024 |
654 | CCP의 Vp가 ICP의 Vp보다 높은 이유 | 20009 |
653 | [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] | 19836 |
652 | 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] | 19776 |
651 | 상압플라즈마에서 온도와의 관계를 알고 싶습니다. | 19764 |
650 | PM을 한번 하시죠 | 19729 |
제 생각에는 얼룩은 플라즈마- 유발 공정입자의 확산이 시표 표면으로 너무 급하게 일어난다는 의미로 이해됩니다. 따라서 공간에 플라즈마 및 라디컬의 확산 시간을 유지하게 하고 표면에 반응 할 시간을 유지해 주는 방법을 찾아 보았으면 합니다. 특히 PECVD에서 압력이 높아서 균일하게 분포하는 시간이 걸릴 것으로 판단되는바, 이를 제어하려면 플라즈마 개시 조건에서 사용하는 전력 및 압력을 낮은 단계에서 순차적으로 증가시키는 조절 운전 방법을 생각해 볼 수 있겠습니다. 이는 최적화 조건을 PI 모니터링 하고 있으면 보다 능동적 제어가 가능할 것이나, 경험상으로도 어렵지 않게 조건을 찾을 수가 있을 것 같습니다. (확산과 반응시간 교합)
혹시 현장에서는 이와 관련된 시료 평가 자료가 확보되었을 수도 있겠으니, 압력/전력 조건 별로 얼룩이 크기를 면밀히 검토해 보시면서 공정 리시피를 개발해 보셔도 좋을 것 같습니다. 공정진단팀과 협업을 하실 수 있으면 훨씬 도움이 될 것 같군요.
제 이해 범위 내에서 말씀드렸습니다. 현업의 문제는 훨씬 더 복잡해서 이상과 같은 단편적인 의견을 그저 방향을 잡는데 쓰일 수 있다면 감사하겠습니다. 나중에 결과가 있으면 조용히 알려 주십시오.