안녕하세요. 

 

플라즈마 세정 장비를 다루는 엔지니어입니다.

먼저 전번 연속 플라즈마에 대한 질문에 대해 자세히 답변주셔서 감사합니다.

 

저희는 플라즈마 세정 (Cleaning)을 다루는 회사로, 자재로 여러 종류의 PCB (SR면) 와 Lead Frame (Cu, Ni) 을 사용하고 있습니다.

그런데, 평가 및 참조용으로 PCB, LF을 많이 사용하다보니 자재 수입에 어려운점이 있습니다. (비용, 등)

 

그래서 플라즈마 세정처리를 한번 사용한 자재로 충분한 시간이 지난 후 (자연환원) 다시 사용하여 평가해봤습니다. (Contact Angle)

하지만 새 자재와는 차이가 있어 단순히 자재 재활용에는 문제가 있다는 것을 알게 되었습니다.

 

저희는 PCB, L/F (Cu, Ni) 자재를 플라즈마 처리 이후 다시 사용할 수 있는 방법이 있는지 알고 싶습니다.

가령 세정처리된 자재를 특수한 세척 처리를 거치던가, 표면처리를 거치면 다시 새 자재처럼 쓸 수 있을지 않을까 합니다.

 

플라즈마를 연구하시는 전문가분들은 다양한 경험이 있을거기에 이렇게 질문드리게 됬습니다.

바쁘시겠지만 조언 남겨주시면 감사드리겠습니다.

 

이상입니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76874
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20274
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92696
677 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 593
676 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 595
675 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 598
674 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 599
673 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 600
672 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 609
671 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 611
670 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 612
669 RF Sputtering Target Issue [2] file 613
668 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 614
667 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 616
666 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 617
665 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 620
664 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 623
663 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 625
662 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 625
661 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 626
660 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 632
659 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 637
658 plasma 공정 중 색변화 [1] 638

Boards


XE Login