안녕하십니까

 

광주과학기술원 박사과정 학생인 김현일입니다.

 

이번에 CCP장비를 제작하면서 

 

CCP장비 분석을 어떻게 해야할지 잘모르고 discharge에 문제가 있어 이렇게 문의드리게 되었습니다.

 

CCP 장비에서 electrode 사이에 인가되는 방전 전압 및 전류값을 측정하고싶은데

 

아래 그림과 같이 챔버 외부에서 high voltage probe로 측정을 하였을때 인가되는 전압을 방전전압으로 측정이 가능한지 알고 싶습니다.

 

그리고 전류는 접지되는 electrode에서 접지선에서 측정되는 전류로 측정을할수있는지 알고싶습니다.

 

스크린샷 2024-02-22 111047.png

 

그리고 현재 사용하는 RFPT사의 matcher장비의 impedence matching이 

 

CCP장비에서 발생하는 plasma의 밝기가 어느정도 이상으로 높아지면 impedance maching을 못맞추는 문제가 발생합니다.

 

인가 전압이 상승하면 CCP의 임피던스가 감소한다고 하던데 생성되기 쉬운 범위로 올라가면 impedance maching 범위를 벗어나는것은 아닌것으로 생각되는데 단순 장비의 문제인지 궁금합니다.(처음에 plasma가 발생하다 maching이 깨지고 장비가 제대로 매칭이 안됩니다.)

 

임피던스가 감소하면서 반대로 maching 범위 밖으로 나가는거라면 단순히 impedance matcher 안에있는 코일의 L값이 좀더 큰 코일로 교체하면되는지도 알고싶습니다.

 

긴 질문글 읽어주셔서 감사합니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76739
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20207
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68703
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92294
669 플라즈마 관련 교육 [1] 1408
668 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1227
667 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 445
666 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 812
665 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 885
664 RF 파워서플라이 매칭 문제 815
663 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 4943
662 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1242
661 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 688
660 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 604
659 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1445
658 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 484
657 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1059
656 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 594
655 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1008
654 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 594
653 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1058
652 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1518
651 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 881
650 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2051

Boards


XE Login