안녕하세요 반도체 장비회사에서 인턴으로 일하고있습니다.


pecvd장비를 이용해 ACL(amorphous carbon layer)을 올리는데 박막 stress를 줄여보고자 analog tuner를 chamber side bottom에 달았습니다.


여기서 궁금한 것은 analog tuner가 어떤 원리로 쓰여지는건지 궁금합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76978
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20331
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57251
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68800
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92794
681 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 590
680 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 590
679 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 594
678 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 595
677 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 600
676 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 601
675 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 602
674 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 603
673 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 608
672 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 613
671 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 614
670 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 617
669 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 618
668 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 621
667 RF Sputtering Target Issue [2] file 621
666 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 622
665 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 629
664 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 629
663 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 632
662 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 637

Boards


XE Login