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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[329]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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693 |
기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging]
[1] | 897 |
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692 |
전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source]
[1]  | 808 |
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691 |
OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [Etching]
[1] | 29883 |
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690 |
plasma modeling 관련 질문 [Balance equation]
[1] | 544 |
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689 |
플라즈마 진단 OES 관련 질문 [OES와 atomic spectroscopy]
[1] | 1090 |
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688 |
O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다.
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687 |
플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [Global model과 Balance equation]
[1] | 1378 |
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686 |
Ta deposition시 DC Source Sputtreing
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685 |
전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation]
[1] | 1704 |
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684 |
OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단]
[1] | 1208 |
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683 |
sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias]
[1] | 1382 |
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682 |
RF Sputtering Target Issue [Sputtering]
[2] | 1014 |
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681 |
OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [데이터+플라즈마광학 모델]
[1] | 901 |
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680 |
PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [PECVD와 PACVD]
[1] | 2556 |
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679 |
plasma striation 관련 문의 [Plasma striation]
[1] | 819 |
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678 |
Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다.
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677 |
주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [Plasma heating]
[1] | 902 |
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676 |
Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)]
[1] | 900 |
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675 |
RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [Plasma cleaning]
[1] | 1664 |
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674 |
Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas]
[1] | 1775 |
