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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73575
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 106086
695 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [대기압 플라즈마, highly collisional plasma] [1] 430
694 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [Plasma sheath, Stochastic heating] [1] 1486
693 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 955
692 전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source] [1] file 858
691 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [Etching] [1] 30398
690 plasma modeling 관련 질문 [Balance equation] [1] 570
689 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [OES와 atomic spectroscopy] [1] 1202
688 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 987
687 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [Global model과 Balance equation] [1] 1413
686 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2473
685 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation] [1] 1829
684 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단] [1] 1341
683 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1459
682 RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 1109
681 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [데이터+플라즈마광학 모델] [1] 963
680 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [PECVD와 PACVD] [1] 2719
679 plasma striation 관련 문의 [Plasma striation] [1] file 854
678 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 736
677 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [Plasma heating] [1] 951
676 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)] [1] file 961

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