Deposition SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문
2022.02.17 17:53
안녕하세요.
CVD 공정 엔지니어로 근무 중인데, 전공과 무관한 업무를 하다보니 막히는 경우가 많은데 교수님께 많은 도움을 받고 있습니다. 감사합니다.
다름이 아니라 SiO2 박막 Depo 후, F 입자를 이용하여 Clean을 진행하는데 박막 밀도가 높을 수록 Clean의 효율이 감소하는 결과를 확인했습니다.
제가 추정하는 이유는 두 가지 인데, 제가 추정하는 이유가 맞는지 교수님의 전문적인 견해가 궁금하여 글을 작성합니다..
1) 막질 밀도가 낮을 수록 막질이 phorous하여 빈 공간으로 Radical이 침투하기 용이하여 반응성 증가
2) 막질 밀도가 낮을 수록 같은 두께의 박막 내 SiO2 분자수가 적기 때문에 제거해야 할 SiO2 분자수가 적어 Clean 효율 증가
항상 감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76871 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20273 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57199 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68751 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92694 |
657 | 대기압 상태의 플라즈마 측정 | 19731 |
656 | cross section 질문 [1] | 19720 |
655 | DCMagnetron Sputter에서 (+)전원 인가시 | 19714 |
654 | Noise 문제, 탐침에 의한 식각 플라즈마의.. | 19693 |
653 | DC SPT 문의 | 19682 |
652 | smsith chart 공식 유도하는 방법? | 19659 |
651 | 플라즈마를 이용한 폐기물 처리 | 19641 |
650 | [re] 터보분자펌프에 대해서 질문 좀 하고 싶어요! | 19558 |
649 | 플라즈마를 이용한 박막처리 | 19488 |
648 | self bias [1] | 19484 |
647 | Full Face Erosion 관련 질문 [2] | 19461 |
646 | H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. [2] | 19431 |
645 | QMA에 관하여 [1] | 19431 |
644 | AC 플라즈마에서의 전압/전류 형상... | 19390 |
643 | 터보분자펌프에 대해서 질문 좀 하고 싶어요! | 19360 |
642 | CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여 | 19351 |
641 | MFC | 19334 |
640 | [Q]플라즈마 생성위한 자유전자라는게 뭐죠? | 19328 |
639 | scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] | 19221 |
638 | 질문이 몇가지 있읍니다. [1] | 19195 |