Others ICP 후 변색 질문

2018.01.23 19:11

Wafer 조회 수:758

안녕하십니까.

현재 반도체 회사에서 근무하고 있습니다.

ICP 공정 중 일어나는 Sapphire wafer (Al2O3) 변색 관련 질문 드립니다.

BCl3 gas를 이용한  ICP 진행 중 간간히 wafer가 옅은 노란색을 띄는 황변이 발생하고 있고.

황변 발생 wafer는 재열처리로 황변을 제거 하고 있습니다. (가끔 황변이 제거 안되는 경우도 있습니다.)

이와 관련.  

1. Oxygen의 숫자 부족

2. Al3 + vacancy 과도의 이유로 추정하고 있습니다.

Ingot 자체의 물성(?)이 원인이라고 파악하고 있는데.

혹시, ICP 진행 중 어떠한 화학반응에 의해 황변이 발생할 가능성이 있는지요.

어떠한 내용이라도 좋습니다.

위 황변 내용과 관련하여 다른 의견이나 지식을 얻고 싶습니다.

ICP 진행 중 wafer 황변 발생의 원인과 그에 따른 해결 방안 혹은 점검 내용이 있다면 알려주시길 부탁드립니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [300] 77755
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20729
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57648
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69148
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93409
51 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 790
50 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 771
49 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 769
» ICP 후 변색 질문 758
47 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 757
46 Polymer Temp Etch [1] 750
45 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 749
44 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 731
43 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 707
42 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 703
41 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 669
40 RF Sputtering Target Issue [2] file 667
39 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 653
38 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 650
37 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 650
36 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 650
35 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 627
34 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 609
33 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 573
32 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 537

Boards


XE Login