안녕하세요. 플라즈마응용연구실 관라자입니다.

 

금일부터 QnA 글을 작성하기 위해 등업제도를 일부 이용합니다.

 

해당 공지 게시글에 가입 인사를 적어주시면 QnA 글을 쓸 수 있는 권한을 받게 됩니다.

(*별도의 권한 처리 없이 댓글 등록시 바로 QnA 작성이 가능해집니다.)

 

글 작성 전에 반드시 댓글을 남겨주시고 QnA 글을 작성해주시기 바랍니다.

 

감사합니다.

 

** 기존에 글을 작성하셨던 분들도 권한 처리가 필요하므로 간단하게라도 댓글 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
» [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [320] 85751
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 22614
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 59312
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71050
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 98097
54 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해보고 싶습니다. [플라즈마 가속 전자의 충돌 반응] [1] 997
53 Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지] [1] 948
52 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지] [2] 928
51 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 902
50 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [단위 Chamber의 PM 이력] [1] 902
49 remote plasma를 이용한 SiO2 ethching 질문드립니다. [식각률 self limit과 쉬스 에너지 변화] [1] 901
48 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 890
47 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 855
46 RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 842
45 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 837
44 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술] [1] 832
43 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 830
42 ICP 후 변색 질문 818
41 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide] [2] 809
40 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)] [1] file 806
39 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 783
38 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [Sheath 전기장 및 instability] [1] file 769
37 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [Self bias와 RIE] [1] 755
36 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 704
35 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [핵융합 연구소] [1] 693

Boards


XE Login