안녕하십니까 현재 MF(400kHz) 파워를 개발중에 있는 연구원입니다. 

 

RPG 파워를 개발중에 있습니다. 

개발품으로는 RPG에서 챔버의 유량 (GAS)에 따른 출력이 변화하며 제어 되어야 하는데, 

검출로는  FWD_P, REF_P만을 사용하려 합니다. 

이 두가지 팩터로, 챔버의 임피던스 변화량을 추정 할 수 있는지 궁금합니다. 

 

만약 방법이 있다면 알려주시면 감사하겠습니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102887
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24689
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61425
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73479
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105839
693 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 942
692 전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source] [1] file 844
691 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [Etching] [1] 30315
690 plasma modeling 관련 질문 [Balance equation] [1] 567
689 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [OES와 atomic spectroscopy] [1] 1177
688 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 978
687 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [Global model과 Balance equation] [1] 1407
686 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2471
685 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation] [1] 1797
684 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단] [1] 1316
683 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1436
682 RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 1087
681 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [데이터+플라즈마광학 모델] [1] 954
680 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [PECVD와 PACVD] [1] 2689
679 plasma striation 관련 문의 [Plasma striation] [1] file 847
678 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 723
677 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [Plasma heating] [1] 945
676 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)] [1] file 948
675 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [Plasma cleaning] [1] file 1751
674 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas] [1] 1867

Boards


XE Login