Plasma in general PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다.
2020.08.27 18:00
안녕하세요, 교수님.
CCP Plasma 를 이용해 SiH4 와 N2O gas 를 flow 시키면서 SiO2 막질을 형성하는 공정 진행중, Chamber wall 부분에서 특이점이 발생하여 문의드립니다.
Chamber 내부에 형성된 plasma 보다 밝기는 더 밝은 모양의 Parastic plasma 가 chamber wall 부분을 따라 계속해서 왔다 갔다 움직이는 현상입니다.
RF power 가 지나가는 path 의 component 연결상태를 다시 확인 후 다시 plasma 를 켰을때, parastic plasma 의 위치만 변했을 뿐, 현상은 동일합니다.
이와 같은 현상이 발생하는 원인이 무엇일까요? Chamber 내부 conditioning 이 덜 되어서 일지, 아님 실제로 RF power loss 가 Capacitively Coupled 된 두 기판 사이의 어디선가 발생하여 기인된 것일까요?
답변 부탁드립니다.
감사합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] | 78037 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20847 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57737 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 69253 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 93631 |
679 |
plasma striation 관련 문의
[1] ![]() | 523 |
678 | Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. | 586 |
677 | 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] | 691 |
676 |
Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동
[1] ![]() | 629 |
675 |
RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계
[1] ![]() | 1286 |
674 | Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] | 1349 |
673 | Plasma Arching [1] | 1138 |
672 | Polymer Temp Etch [1] | 758 |
671 |
CCP Plasma 해석 관련 문의
[1] ![]() | 1091 |
670 | AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 | 547 |
669 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1491 |
668 | 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] | 1456 |
667 | 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] | 500 |
666 | 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] | 835 |
665 | Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] | 949 |
664 | RF 파워서플라이 매칭 문제 | 874 |
663 |
CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.
[1] ![]() | 5640 |
662 | RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] | 1351 |
661 | 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] | 749 |
660 | 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] | 633 |
장비 개조 없이 확인해 볼 사항은 세정 전후의 상태 비교가 있겠고, 특히 반응기 내의 가스 흐름과 벽면 상태에 대한 자료 조사가 필요해 보입니다. 가능하면 타킷 시편 향으로 반응물 및 플라즈마 분포가 집속될 수 있도록 구조 조절 및 노즐 조절 자료가 필요해 보입니다. 조절 방법을 찾는데 도움이 되었으면 합니다.