안녕하세요 

 

현재 기업에 다니고 있는 회사원입니다 

표면처리기술 과련 하여 공부하던 중 플라즈마 기술을 보고 문의드립니다 

 

1. water나 유기용매에 분산되어 있는 나노 입자에 플라즈마 처리 가능한가?

 

2. 30nm 이하의 분말형태의 시료에도 플라즈마 처리가 가능하가?

 

목표는 30nm 이하의 입자에 표면처리를 통해 특정 물성을 갖게 하는 것인데, 

입자 전체에 플라즈마 처리를 하고 싶은데 분말일때 플라즈마 처리가 고르게 이루어지지 않을 것 같아 

위와 같은 질문을 드립니다

 

 

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [335] 103786
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24751
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61624
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73574
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 106077
695 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [대기압 플라즈마, highly collisional plasma] [1] 429
694 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [Plasma sheath, Stochastic heating] [1] 1485
693 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 954
692 전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source] [1] file 857
691 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [Etching] [1] 30387
690 plasma modeling 관련 질문 [Balance equation] [1] 569
689 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [OES와 atomic spectroscopy] [1] 1200
688 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 986
687 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [Global model과 Balance equation] [1] 1412
686 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2472
685 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation] [1] 1828
684 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단] [1] 1340
683 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1455
682 RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 1107
681 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [데이터+플라즈마광학 모델] [1] 962
680 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [PECVD와 PACVD] [1] 2716
679 plasma striation 관련 문의 [Plasma striation] [1] file 852
678 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 735
677 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [Plasma heating] [1] 950
676 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)] [1] file 960

Boards


XE Login