번호 제목 조회 수
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48775
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 52794
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 60674
436 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] 657
435 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 671
434 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 674
433 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 678
432 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 693
431 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 703
430 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 704
429 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] 711
428 Group Delay 문의드립니다. [1] 711
427 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 716
426 표면상태에 따른 코팅 전후 비교(PVD) [2] file 723
425 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 729
424 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 729
423 자기 거울에 관하여 730
422 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 736
421 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 741
420 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 747
419 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 750
418 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. 755
417 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 773

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