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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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436 |
DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단
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435 |
micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다.
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434 |
Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미
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433 |
[CVD] 막 증착 관련 질문입니다.
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432 |
DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다.
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431 |
rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다.
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430 |
PECVD Precursor 별 Arcing 원인
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429 |
플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다.
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428 |
Group Delay 문의드립니다.
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427 |
쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문
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426 |
표면상태에 따른 코팅 전후 비교(PVD)
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425 |
챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화
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424 |
Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문
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423 |
자기 거울에 관하여
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422 |
Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다.
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421 |
안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출)
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420 |
플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다.
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419 |
ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다.
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저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다.
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417 |
안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다.
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