Remote Plasma RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의
2019.01.16 13:12
안녕하세요 RPS 식각장비을 사용하는 중 문제가 발생하여 문의드립니다.
현재 RPS 장비를 이용한 폴리머 (SU-8, epoxy계열)의 식각 공정을 하는데, 주로 골드가 증착된 웨이퍼 위에 코팅한 폴리머를 지우는 용도로 쓰고있습니다.
사용하는 가스는 N2, O2, CF4 가스를 사용하고 있으며, 공정 조건은 0.45Torr 압력의 40도 공정조건을 사용하고 있습니다.
헌데 얼마전부터 에칭과정에서 골드기판이 손상되는 현상이 발생하였는데, 아직 그 원인을 찾지 못하고 있습니다. 이론적으로는 메탈이 손상될 일이 없어야하는걸로 알고 있습니다. 잠정적으로는. 폴리머 애칭시 생성되는 byproduct (HF) 에 의한 손상이라 생각되는데, HF의 높은 증기압을 생각하면 꼭 그렇지도 않은것 같고, 챔버의 벤팅문제라 생각되어 펌프를 정비받았으나, 이 또한 문제가 없다고 합니다.
골드기판이 손상되는 경우에는 보통 풀라즈마 밝기가 평소보다 약하게 발생하는 특징이 있습니다. 이제는 플라즈마 정비 내부에 문제가 있다 생각이 되는데 교수님 의견을 듣고 싶습니다. 감사합니다
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76739 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20207 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68703 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92294 |
| 649 | 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] | 685 |
| 648 | 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] | 688 |
| 647 | 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] | 694 |
| 646 | 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] | 696 |
| 645 | 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] | 702 |
| 644 | RF 주파수에 따른 차이점 [1] | 702 |
| 643 | CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] | 706 |
| 642 | 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] | 708 |
| 641 | 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] | 709 |
| 640 | ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] | 715 |
| 639 | 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] | 717 |
| 638 | 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] | 718 |
| 637 | ICP 후 변색 질문 | 726 |
| 636 | 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] | 726 |
| 635 | Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] | 737 |
| 634 | O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. | 737 |
| 633 | RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] | 743 |
| 632 | 교수님 질문이 있습니다. [1] | 745 |
| 631 | 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] | 755 |
| 630 | center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] | 755 |
금속이 식각 되었다는 결과이니 반응기에서 원인이 발생했다는 것이겠습니다. RPS 장비의 내벽에서 어떤 일이 있을 지 모르겠습니다. 빛 신호의 차이를 보실 수 있다면 OES 신호 분석을 해 보시기 바랍니다. F 신호를 면밀히 관찰하시어 반응기 내벽의 변동, 벽면 불화 정도를 판단해 보시는 것이 좋을 것 같습니다.