Others N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문
2023.07.12 14:47
안녕하세요, 교수님
다름이 아니라 N2 Gas를 활용한 Plasma에서 N+ 이온들의 반응성을 이용하여 불필요 막질을 제거하는 조건을 찾게 되었습니다.
실질적으로 N+ 이온들의 반응성이 상당히 좋은 편인지 궁금하여 질문남겨드립니다.
항상 답변 남겨주셔서 감사드립니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] | 78047 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20850 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57738 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 69253 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 93636 |
27 | 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] | 19827 |
26 | DBD플라즈마와 플라즈마 impedance | 20242 |
25 | 상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [1] | 20336 |
24 | Lissajous figure에 대하여.. | 20659 |
23 | Xe 기체를 사용한 플라즈마 응용 | 21341 |
22 | 상압 플라즈마 관련 문의입니다. [1] | 21555 |
21 | 대기압플라즈마를 이용한 세정장치 | 21565 |
20 | F/S (Faraday Shield) | 21598 |
19 | ccp-icp | 21641 |
18 | glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압 | 21806 |
17 | 플라즈마의 발생과 ICP | 22196 |
16 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 23148 |
15 | CCP/ICP , E/H mode | 23175 |
14 | No. of antenna coil turns for ICP | 23175 |
13 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23302 |
12 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23496 |
11 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 24422 |
10 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24490 |
9 | 플라즈마가 불안정한대요.. | 24553 |
8 | PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] | 25023 |
본 게시판에서 질소 플라즈마 를 검색해 보시기를 추천드립니다.