안녕하세요. 반도체 회사에 재직중인 장비엔지니어 입니다.

 

에칭을 진행하는 특정 공정에서 특정 Step을 진행하는 중간에

 

60Mhz만 Ref가 튀면서 Bias Power도 튀는 현상이 있습니다..

 

27Mhz, 2Mhz도 사용하지만 해당 Power의 Ref는 정상이구요..

 

매쳐나 Generator를 바꿔봐도 현상이 똑같은거보면 chamber 내부에서 분위기가 달라지면서 발생하는 현상일 것 같은데

 

어떤 이유들이 이런 현상을 일으킬 수 있을까요..?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] 75420
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19154
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56477
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67550
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89340
608 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 730
607 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 732
606 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 732
605 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 737
604 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] 746
603 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 749
602 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 749
601 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 750
600 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 750
599 플라즈마 충격파 질문 [1] 760
598 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 771
597 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 774
596 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 775
595 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 775
594 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 777
593 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 779
592 anode sheath 질문드립니다. [1] 783
591 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 785
590 RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] 801
589 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 802

Boards


XE Login