안녕하세요.

 

Plasma를 이용한 Cleaning 공부를 하고 있는 직장인 입니다.

 

Remote Plasma Asher 설비를 공부하고 있는데요,

 

PR Remove 시에는 O2 Gas를 사용하여 제거하는 것으로 알고있습니다.

 

C + O* → O2↑

 

여기서 O2를 Plasma로 방전시키고, N2 Gas를 Carrier gas로 사용하는데,

 

여기서 Carrier gas는 말 그대로 Radical을 이동시키는 역할만 하는 것인가요??

 

N2 Gas를 Carrier gas로 사용하는 이유가 궁금합니다.

 

추가로 Corrosion 방지를 위해 H2O Gas도 사용하는 것으로 알고 있는데요,

 

H2O 로 Corrosion을 방지하는 원리도 설명 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102866
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24688
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61418
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73479
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105832
693 전쉬스에 대한 간단한 질문 [Debye length 및 sheath 형성] [1] 854
692 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction] [1] 856
691 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [Druyvesteyn distribution 이해] [1] 859
690 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring] [1] file 870
689 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [Sheath 전기장 및 instability] [1] file 871
688 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [전자 가열 방법 및 생산성에 따른 구별] [1] 872
687 Co-relation between RF Forward Power and Vpp [RF ground] [1] 873
686 ICP 후 변색 질문 874
685 프리쉬스에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion 및 collisionless sheath] [1] 875
684 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [Self bias와 RIE] [1] 877
683 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [UV energy] [1] 882
682 RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화] [1] 904
681 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 906
680 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [플라즈마 이온화 및 해리 반응, 반응기 벽면 세정] [1] 922
679 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 929
678 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide] [2] 934
677 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [Matcher 기능] [2] 936
676 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 941
675 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [Plasma heating] [1] 944
674 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)] [1] file 948

Boards


XE Login