Others ICP 후 변색 질문
2018.01.23 19:11
안녕하십니까.
현재 반도체 회사에서 근무하고 있습니다.
ICP 공정 중 일어나는 Sapphire wafer (Al2O3) 변색 관련 질문 드립니다.
BCl3 gas를 이용한 ICP 진행 중 간간히 wafer가 옅은 노란색을 띄는 황변이 발생하고 있고.
황변 발생 wafer는 재열처리로 황변을 제거 하고 있습니다. (가끔 황변이 제거 안되는 경우도 있습니다.)
이와 관련.
1. Oxygen의 숫자 부족
2. Al3 + vacancy 과도의 이유로 추정하고 있습니다.
Ingot 자체의 물성(?)이 원인이라고 파악하고 있는데.
혹시, ICP 진행 중 어떠한 화학반응에 의해 황변이 발생할 가능성이 있는지요.
어떠한 내용이라도 좋습니다.
위 황변 내용과 관련하여 다른 의견이나 지식을 얻고 싶습니다.
ICP 진행 중 wafer 황변 발생의 원인과 그에 따른 해결 방안 혹은 점검 내용이 있다면 알려주시길 부탁드립니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76738 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20206 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68702 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92287 |
649 | 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] | 685 |
648 | 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] | 687 |
647 | 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] | 694 |
646 | 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] | 696 |
645 | RF 주파수에 따른 차이점 [1] | 701 |
644 | 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] | 702 |
643 | CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] | 706 |
642 | 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] | 708 |
641 | 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] | 709 |
640 | ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] | 715 |
639 | 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] | 716 |
638 | 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] | 718 |
» | ICP 후 변색 질문 | 726 |
636 | 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] | 726 |
635 | Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] | 737 |
634 | O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. | 737 |
633 | RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] | 743 |
632 | 교수님 질문이 있습니다. [1] | 745 |
631 | 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] | 755 |
630 | center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] | 755 |