안녕하세요..

RF를 사용한 플라즈마를 만들때 RF는 파동형태로 전달이되며 임피던스가 맞지 안으면 반사되어 되돌아오는걸로 알고 있습니다.

RF도 교류이기때문에 전기공학에 쓰이는 전기처럼 전압,전류의 위상차로 인해 발생하는 무효전력이 power source로 되돌아 온다고 보면 될까요?아니면 RF(13.56MHZ)의 반사파를 설명할때 다른 원리로 설명을 해야할까요?

임피던스, 리엑턴스와 같은건 전기공학에 나오는 식으로 RF도 같이 설명이 가능한것 같은데 RF의 반사파(reflector power)는 무효전력 개념으로(공식)  설명(이해)을 해도 되는지가 궁금합니다..

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103707
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24746
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61602
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73555
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 106062
33 plasma striation 관련 문의 [Plasma striation] [1] file 852
32 ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential] [1] 842
31 핵융합 질문 [NFRI 국가핵융합 연구소] [1] 806
30 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [열플라즈마와 "플라즈마 금속학"] [1] 796
29 수중방전에 대해 질문있습니다. [플라즈마 생성 및 방전] [1] 788
28 챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP] [1] 769
27 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [Powder] [1] 742
26 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 717
25 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [플라즈마 생성 반응] [1] 702
24 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [Plasma breakdown과 살균 과정] [1] file 685
23 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 670
» RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [RF 전원과 매칭] [1] 669
21 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [ICP와 H field] [1] 652
20 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정] [2] file 649
19 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching] [1] 622
18 micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장] [1] 572
17 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 567
16 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [전자 충돌 현상 및 입자 충돌 현상] [1] 562
15 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 504
14 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 487

Boards


XE Login