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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68669
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42 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 730
41 ICP 후 변색 질문 723
40 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 723
39 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 700
38 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 694
37 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 693
36 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 667
35 Polymer Temp Etch [1] 649
34 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 634
33 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 607
32 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 604
31 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 601
30 RF Sputtering Target Issue [2] file 592
29 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 543
28 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 539
27 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 491
26 PECVD Uniformity [1] 485
25 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 474
24 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 471
23 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 463
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