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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66858
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23 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 565
22 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 559
21 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 556
20 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 525
19 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 509
18 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 470
17 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 413
16 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 391
15 Polymer Temp Etch [1] 375
14 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 359
13 RF Sputtering Target Issue [2] file 354
12 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 338
11 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 318
10 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 304
9 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 257
8 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 242
7 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 217
6 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 194
5 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 190
4 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 133
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